Создание компании АО «НТО» и регистрация бренда SemiTEq^®

Реализация проектов по модернизации советских установок молекулярно-лучевой эпитаксии (МЛЭ)

Выпуск первой российской установки МЛЭ ЭПН3 для выращивания материалов А3N

Начало серийного выпуска установок МЛЭ на новой платформе STE3N для выращивания нитридов III группы

Разработка первых моделей установок плазмохимического травления (STE ICP), электронно-лучевого напыления (STE EB) и быстрого термического отжига (STE RTA)

Выпуск новой платформы МЛЭ STE35 для выращивания гетероструктур на основе материалов A3B5

На базе платформы STE35 изготовлен двухреакторный комплекс STE3526 для выращивания гибридных наногетероструктур А3В5/А2В6

АО «РОСНАНО» одобрен инфраструктурный проект АО «НТО». Создана Прикладная лаборатория АО «НТО»

Реализован проект по экспортной поставке установки МЛЭ STE3N в г. Дели, Индия

Выпуск универсальной компактной платформы МЛЭ STE75 для эпитаксии соединений A3B5, A2B6 и A3N. Первая установка поставлена в Университет Торонто, Канада

Выпуск линейки установок магнетронного распыления STE MS150 для широкого спектра R&D применений, а также STE MS900 для групповой обработки пластин

Выпуск модернизированной установки МЛЭ STE35 для выращивания материалов А3В5 на подложках до Ø100мм с ростовой камерой новой конструкции

Выпуск платформы STE ICP200 нового поколения, а также модернизированных установок электронно-лучевого напыления STE EB71 и установок быстрого термического отжига STE RTA100

Разработка технологического оборудования в рамках реализации российской части научно-технической программы Союзного государства РФ и Республики Беларусь

Выпуск роботизированной платформы МЛЭ STE35R для выращивания гетероструктур на основе GaAs

Выпуск установок STE ICP200 и STE MS900 с автоматизированной кассетной загрузкой