Базовая система для работы с пластинами 3х3”, 6х2” в одном процессе и возможностью реализации технологии lift-off была разработана специалистами компании в 2008 году. Целый ряд успешных инсталляций за последние 7 лет продемонстрировал эффективность данной шлюзовой сверхвысоковакуумной системы электронно-лучевого напыления для решения задач, требующих глубокого предпроцессного вакуума. По результатам технологической эксплуатации STE EB71 в конструкцию был внесен ряд доработок, которые позволили расширить технологические возможности установки, а также существенно улучшить удобство её эксплуатации и технического обслуживания.

В частности, были проведены следующие доработки:

• увеличено максимальное расстояние от мишени до подложки (до 500мм) с целью снижения косвенного воздействия технологического процесса напыления металлов на электронные резисты;
• рабочая высота обслуживания снижена на 180мм;
• обеспечен максимально упрощенный доступ для монтажа и обслуживания ионного источника;
• расширены возможности программы автоматического управления технологическим процессом.

 ЗАО «НТО» также анонсирует в этом году выпуск модернизированной установки электронно-лучевого напыления STE EB65, которая будет обеспечивать работу с пластинами 20х3’’, 12х4’’ в одном процессе с реализацией технологии lift-off.

Компания ЗАО «НТО» с 2001 года известна на российском и зарубежном рынках под брендом SemiTEq. Сегодня компания разрабатывает и производит оборудование для молекулярно-лучевой эпитаксии, а также различные системы для постростовой обработки пластин. В основе конкурентного преимущества оборудования SemiTEq лежит комплексный подход к разработке и поставке оборудования вместе с базовыми технологическими процессами, которые позволяют реализовать концепцию быстрого технологического запуска на предприятии. Специалисты с более чем 20-летним опытом разрабатывают уникальные решения под конкретные задачи пользователя, а в основе любой выпускаемой системы всегда лежат собственные патенты и ноу-хау компании.