Установка плазмохимического травления в комбинированной плазме емкостного и индуктивного разряда STE ICP200E

Главная Каталог продукции Установки для плазмохимической обработки

STE ICP200E Установка плазмохимического травления в комбинированной плазме емкостного и индуктивного разряда

Установка STE ICP200E предназначена для проведения процессов плазмохимического травления с использованием фторной или хлорной химии в комбинированной плазме емкостного и индуктивного разряда. Рекомендуется использовать разные установки для хлорной или фторной среды в составе производственно-технологической линии.

7×Ø2"
4×Ø3"
1×Ø100мм
1×Ø150мм
1×Ø200мм

КАМЕРА-РЕАКТОР

Предельное остаточное давление в реакторе <5∙10^-6мм рт.ст.

Плоский источник индуктивно-связанной плазмы

Мощность ВЧ генератора RIE емкостного электрода до 500Вт (1000Вт*)

Мощность генератора ICP верхнего электрода (13,56 МГц) до 1000Вт (3000Вт*)

Температура пластин регулируется температурой теплоносителя в RIE электроде от -30°C до +80°C (+180°C*)

Нагрев стенок реактора

ГАЗОРАСПРЕДЕЛИТЕЛЬНАЯ СИСТЕМА

6 (12*) газовых линий в коррозионно-стойком исполнении, в т.ч. с байпасами

Отсечной вакуумный клапан

ВАКУУМНАЯ СИСТЕМА

Система откачки, сконфигурированная с учетом применения установки (турбомолекулярный, форвакуумный спиральный насосы)

СИСТЕМА УПРАВЛЕНИЯ

Автоматизация технологического процесса с периодической попеременной подачей газов

Автоматизированная очистка камеры

Программирование и сохранение технологических рецептов

*опция

Неоднородность травления и осаждения ±2% на пластинах Ø100мм
Оптимизированная система газораспределения
Проведение технологического процесса по рецепту
Инсталляция «через стену» чистого помещения
Автоматизированная закрузка пластин
Возможность кассетной загрузки*

__________________________________

*опция