 |
2001-2002
Проведена глубокая модернизация установок МЛЭ, выпускавшихся в СССР
|
 |
2003-2004
Разработана специализированная установка молекулярно-лучевой эпитаксии ЭПН3, предназначенная для выращивания нитридов III группы |
 |
2005-2006
Успешно завершены испытания экспериментального образца установок МЛЭ новой серии STE (обеспечивающей получение наногетероструктур на основе соединений А3В5 и Si-Ge), что положило начало серийному выпуску установок МЛЭ. |
 |
2006-2007
Выпущены первые модели установок планарного цикла: плазмохимического травления, электронно-лучевого напыления, термической обработки |
 |
2007-2008
Разработана новая установка МЛЭ STE3532, сконфигурированная для роста материалов А3В5 . |
 |
2008-2009
Разработан и изготовлен первый двухреакторный комплекс STE3526, сконфигурированный для выращивания гибридных наногетероструктур А3В5 / А2В6 с учетом последних достижений в области МЛЭ полупроводников в данных системах материалов |
 |
2009-2010
Инфраструктурный проект с участием ЗАО «НТО» одобрен ОАО «РОСНАНО». Заключен контракт с одной из ведущих индийских лабораторий системы МО - DRDO (Defense Research and Development Organization) физики твердого тела, SSPL, New Delhi, на поставку установки STE3N2 с плазменным источником. |
 |
2011-2012
В рамках государственного контракта разработан новый комплексный продукт - Нанолаборатория. Введена в эксплуатацию Прикладная лаборатория компании. |